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三星電子、世界初10ナノ工程を量産

三星(サムスン)電子は、韓国内外システム半導体業界では初めて10ナノ(ナノメートル)工程の量産を開始したと、17日明らかにした。10ナノ工程適用製品は、三星電子が来年初めに発売するスマートフォンの次期作「ギャラクシーS8」などに搭載されるものとみられる。

三星電子は昨年1月、モバイルアプリケーションプロセッサー(AP)に業界では初めて14ナノ工程量産を開始した。三星電子が今回量産した10ナノ第1世代工程は、従来の14ナノ第1世代比性能が27%も改善された。消費電力は40%減ったものの、ウェーハー1枚当たりのチップ生産量は約30%増えた。三星電子側は、「10ナノ工程の量産のためには、14ナノ工程より一段と精巧で微細な回路を書き込む『パターニング』作業が必要だ」とし、「従来の装備を活用して、パター二ング過程を3回繰り返す『トリプルパター二ング』技術を採用することで、微細工程の限界を克服し、設計の柔軟性を確保した」と説明した。

三星電子は昨年から、14ナノ生産工程を世界初で商用化した技術力を打ち出して、ライバル会社各社とのモバイルAP委託生産(ファウンドリー)の格差を広げている。特に、ファウンドリーの最大手ライバルメーカ―である台湾のTSMCとは10数年にわたって、相互に二転三転しながら技術競争を続けている。電子業界では現在、16ナノ工程量産中のTSMCも、早ければ年内に10ナノ工程量産が可能とみられ、両社の競争はさらに激しさを増すものとみられる。


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TSMCはまず、10ナノ工程を短期間に活用後、7ナノ量産に本格的に取り掛かるものとみられる。一方、三星電子は、7ナノ開発に必要な装備技術は依然安定性が落ちると判断し、10ナノ工程技術をより長期的に持っていくという戦略を選んだという。実際、三星電子は同日、「10ナノ第1世代工程量産を皮切りに、来年は性能を向上させた第2世代工程量産を目標に開発している」とし、「第2世代以降も引き続き性能改善や派生工程拡大を通じて、10ナノ工程を長期間活用する計画だ」と発表した。

電子業界の関係者は、「14ナノを先に量産した三星電子を追従する立場であるTSMCとしては、後で三星電子が一歩リードすることまでを計算に入れて、技術開発競争を繰り広げなければならないため、今更敢えて10ナノ技術に「オールイン」するのはあまり意味がないと受け止めたかもしれない」と解釈した。電子業界によると、TSMCはアップルの次期作「アイフォーン8」専用モバイルAPである「A11」ファウンドリーを独占受注した。三星電子は、クアルコムの次期モバイルAP生産を担当したという。
http://japanese.donga.com/List/3/02/27/762907/1

【管理人 補足記事&コメント】
半導体製造装置関連株には今年度後半に向けての本格活躍期待が出ている。足もとで円高が進行するなかでもSCREENホールディングスや東京エレクトロンといった銘柄は、底堅い値動きを続けている。その背景にはあるのは半導体業界の設備投資活発化だ。 データセンター向けサーバー需要などを背景にDRAMやロジック系半導体が伸びているが、特に注目を集めているのが「10ナノ台」(ナノは10億分の1)向けや「3D NANDメモリ」の設備投資需要だ。

半導体業界では、回路の線幅を従来より細くして生産性を高める動きが強まっている。現在はメモリー半導体のDRAMで回路線幅が10ナノメートル台後半の製品開発を巡りしのぎを削っている。韓国のサムスン電子が10ナノ台のDRAMの量産化を始めており、今後、同社に追随する格好で10ナノ台DRAM量産化の動きが活発化する。また、「3D NAND」型フラッシュメモリーの開発も活発化。これは、積層化によりチップ面積を小さくし、速いスピードと上書き・消去のプロセスへの耐久度を高めたものであり、次世代スマートフォンなどへの搭載されている。

今後は半導体設備投資需要の盛り上がりで、東エレク、スクリーンのほか、ディスコ、日立国際電気、ニコン、東京精密などが注目されそうだ。これまで生産委託を分散させていた米クアルコムも2017年にTSMCの10ナノメートル製造プロセスを大々的に採用する予定だ。これによりTSMCは10ナノメートルの試験生産の進展を一段と速めて、サムソンを一層引き離すとしている。発熱量では問題を抱えるサムスンである。微細化理論に合わないわけで、技術レベルに問題があるのではという想像もある。



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[ 2016年10月18日 11:00 ] カテゴリ:韓国経済 | TB(0) | CM(0)
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