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日本の輸出規制が拡大したらサムスンのEUVが大打撃か

2019年7月12日、中国メディアの「52RD.com」は、韓国メディアの報道を引用し、日本の輸出規制が拡大したらサムスン電子の極端紫外線(EUV)が大打撃を受けると伝えた。

記事は、聯合ニュースの報道を引用。「日本が輸出規制品に加える可能性のある品目には、集積回路(IC)、電源管理IC(PMIC)、フォトリソグラフィ設備、イオン注入装置、ウエハー、マスクブランクスなどが含まれる」と紹介。「これらが輸出規制されると、個別に許可を取る必要があり、90日前後の審査時間がかかる」と伝えた。

記事は「注目に値する点としては、EUV工程ではフォトレジスト以外に代替品がないだけでなく、日本企業はウエハー、マスクブランクス市場の占有率も非常に高いこと」と指摘。業界関係者は、「サムスンの主力であるEUV工程は、非常に細かな新技術で、韓国が生産するマスクブランクスでは日本製の代わりとすることができない」と話しているという。

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NH投資証券の研究員によると、EUV工程に使用するマスクブランクスは現在、日本のHOYAがほぼ独占しており、韓国企業のS-Techも生産してはいるものの、「技術力に欠ける」としている。 記事は「フォトレジストについていうと、その工程は複雑だが、核心部分には技術面で進んでいる日本製品が使用されている」と指摘。EUV用のフォトレジストは、JSR、信越化学工業などの日本企業が提供しており、韓国のDongjin Semichemなどの企業は関連製品を開発中だと伝えた。
https://www.recordchina.co.jp/

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「ABICS」は、マスクブランクスの欠陥を検査する装置

半導体チップの製造工程において必要不可欠なマスクブランクスとフォトマスクは、半導体の微細で複雑な回路パターンを半導体ウエハに転写する際の原版となる。世界シェアNo.1のHOYAのマスクブランクスは、国内外の半導体メーカーやマスクメーカーに提供している。また露光装置はASMLが独占するものの、露光工程で「原版」の役割を担うマスク/ブランクス分野において、日系企業のポジションは総じて高い。そのうちレーザーテックは、EUVマスクブランクス向け欠陥検査装置を手がけており、EUV向けに事業拡大が期待される企業の1社となる。

このマスクブランクス検査装置を使って、実際にマスクブランクスを供給する企業が筆頭がHOYAとなる。一方、旭硝子もEUV露光用フォトマスクブランクスの供給体制を、グループ会社であるAGCエレクトロニクスで18年から大幅に増強している。さらに、マスクをコンタミネーション(ゴミ)から守る保護膜の役割を担うペリクルなどもあり、ここも日系優位の市場となる。

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[ 2019年07月15日 08:20 ] カテゴリ:韓国経済 | TB(0) | CM(0)
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