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韓国政府、素材・部品・装備産業の育成に今年約2千億円を投資

政府が素材・部品・装備産業の需給の安定と競争力強化に向け、今年2兆1千億ウォン(約2千億円)を投入し、関連企業の育成に乗り出す。

産業通商資源部は22日、仁川(インチョン)のあるフォトレジスト製造会社で開かれた素材・部品・装備の競争力委員会で、このような内容を盛り込んだ「2020年素材・部品・装備対策施行計画」を報告した。昨年7月、日本による半導体の主要素材3品目の輸出規制以降、日本への依存度が高かった主要な素材・部品・装備産業の国産化に力を注いできた政府が、今年さらに強力に政策を推進する方針だ。

この日の会議で産業部は、ここ6カ月間の努力で日本の輸出規制品目の国内生産基盤が固まったと評価した。液体フッ化水素は工場の新設・増設を通じて国内生産能力を以前より倍以上拡大し、第3国製品も試験を経て生産に投入された。気体フッ化水素(エッチングガス)は昨年末に新規工場が完成し、試作品を生産して国内生産基盤を確保した。フォトレジストも独自の技術開発や米国のデュポンなどの投資を誘致し、国内供給基盤を強化した。フルオレン・ポリイミドは昨年末に新規工場が完成した後、試作品を生産している。

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政府は今年さらに確実に需給の安定性を確保し、年内に目に見える成果が出せるよう、2兆1千億ウォンを投資することにした。まず、100大品目の技術開発に1兆2千億ウォンを投入し、特に3大規制品目は完全な需給の安定化の達成を目標に、国内生産など企業活動支援に乗り出す。技術開発と生産連携には1500億ウォン(約142億円)を投入し、15の公共研究所・ナノファブ(Nano fab=企業体がナノ技術を用いた素材などの試作品製作、試験評価などを行える工場)など、テストベッドを大幅に拡充する。
http://japan.hani.co.kr/arti/economy/35561.html

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日本法人であるSK Materials Japanは、東芝の地元である四日市に本社を置き、日本の半導体メーカー各社にNF3ガスはじめ特殊ガスを販売している。2017年には、半導体製造工程で窒化膜のエッチングに必要な高純度CH3F(モノフルオロメタン)ガスを韓国で製造するため、SK Materialsと昭和電工との合弁会社SK Showa Denkoを韓国に設立している。

SKグループは、昨年8月に半導体を含むIT産業全般に使われる素材の開発および生産に関する協力組織「IT素材ソリューションプラットフォーム」を立ち上げた。日本から輸出管理規制のかかったポリイミドや無水フッ化水素ガスをグループ内のSKC とSM Materialsでそれぞれ年内に製造を開始する。

2017年にSKグループは、シリコンウェーハメーカーであるLG SiltronをLGグループから買収しSK Siltronに社名に変更している。SK Siltronの最大顧客は、サムスンとSKハイニックスで、米Intel, 米Micron、台TSMC、キオクシア(東芝メモリ) にも出荷している。今後生産能力を拡大し、信越半導体、SUMCOに次ぐ世界3位の地位を固めるとしている。
[ 2020年01月25日 09:29 ] カテゴリ:韓国経済 | TB(0) | CM(0)
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