文大統領、7日にオランダ首相と首脳会談…半導体生産協力を協議
文在寅(ムン・ジェイン)大統領が7日、オランダのマルク・ルッテ首相とテレビ電話首脳会談を開くと、大統領府が5日に発表した。 文大統領は7日午後、ルッテ首相とテレビ電話を通じて韓-オランダ首脳会談を行い、両国関係および世界の懸案について話し合う予定だと、パク・キョンミ大統領府報道官が明らかにした。今回の首脳会談は3年ぶりに開催されるもので、国交正常化60周年を迎え、オランダが先に提案して実現した。
大統領府は今回の首脳会談を通じて、半導体装備生産大国のオランダとの協力をさらに強化すると述べた。パク報道官は「オランダは朝鮮戦争に約5千人を派兵した友好国で、韓国にとっては欧州諸国のうち第2位の交易国だ。最近は半導体や再生可能エネルギーなど未来産業分野で協力の必要性が高まっている」とし、「オランダは極端紫外線(EUV)露光装置などの半導体装備生産大国で、韓国の半導体製造の強みを融合させ安定的なサプライチェーンを構築するなど、相互補完的な協力の可能性が高いと評価されている」と述べた。
オランダには最先端の超微細工程半導体を生産するのに必要なEUV露光装置を生産する世界的な企業ASMLがある。1台当たり2000億ウォン(約195億円)以上のEUV露光装置は、1年の生産量が40台程度に過ぎず、半導体メーカー各社が確保のため激しい競争を繰り広げている。ASMLは今年5月、2400億ウォン(約235億円)を投資し、教育訓練センターを韓国に設立すると発表した。
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大統領府は「両首脳は2016年に樹立した『包括的未来志向的パートナー関係』のもと、グローバル舞台で協力を拡大する案について協議する予定だ」と述べた。
http://japan.hani.co.kr/arti/politics/40474.html

ASMLは4月21日に開催した2021年第1四半期業績発表において、EUV露光装置の出荷台数について、2020年度は31台(実績)であったものが、2021年は約40台、2022年は約55台 、2023年はそれ以上との見通しを明らかにした。当面の目標は60台としている。また、2022年度に出荷される予定のEUV露光装置はすべて「TWINSCAN NXE:3600D」という最新機種となる予定で、ウェハ処理能力は前世代比で15~20%向上すると予想している。
半導体業界においてEUV露光装置の重要性がさらに増すと見られており、すでに2月にはSK Hynixが先端DRAM製造に向けてASMLと5年間のEUV露光装置の購入契約(4500億円前後)を締結したほか、同じく3月には、Intelが7nm CPUの製造にEUV露光装置を本格的に活用していくことを明言している。加えて4月、Nanya TechnologyがEUVを採用したDRAMの製造に向けた新ファブ建設を発表している。これまでEUVを活用してきたTSMCもSamsung Electronicsも増産に向け、EUV露光装置の導入を加速させる見通しであり、今後、EUV露光装置の奪い合いが起こる可能性が高く、ASMLは増産を進める必要性に迫られるのではないかと業界関係者は見ている。
2020年に、サムスン李副会長が新型コロナによる出入国規制の中、オランダのASML本社に赴き直談判し、EUV露光装置の購入にこぎつけている。
大統領府は今回の首脳会談を通じて、半導体装備生産大国のオランダとの協力をさらに強化すると述べた。パク報道官は「オランダは朝鮮戦争に約5千人を派兵した友好国で、韓国にとっては欧州諸国のうち第2位の交易国だ。最近は半導体や再生可能エネルギーなど未来産業分野で協力の必要性が高まっている」とし、「オランダは極端紫外線(EUV)露光装置などの半導体装備生産大国で、韓国の半導体製造の強みを融合させ安定的なサプライチェーンを構築するなど、相互補完的な協力の可能性が高いと評価されている」と述べた。
オランダには最先端の超微細工程半導体を生産するのに必要なEUV露光装置を生産する世界的な企業ASMLがある。1台当たり2000億ウォン(約195億円)以上のEUV露光装置は、1年の生産量が40台程度に過ぎず、半導体メーカー各社が確保のため激しい競争を繰り広げている。ASMLは今年5月、2400億ウォン(約235億円)を投資し、教育訓練センターを韓国に設立すると発表した。
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大統領府は「両首脳は2016年に樹立した『包括的未来志向的パートナー関係』のもと、グローバル舞台で協力を拡大する案について協議する予定だ」と述べた。
http://japan.hani.co.kr/arti/politics/40474.html

ASMLは4月21日に開催した2021年第1四半期業績発表において、EUV露光装置の出荷台数について、2020年度は31台(実績)であったものが、2021年は約40台、2022年は約55台 、2023年はそれ以上との見通しを明らかにした。当面の目標は60台としている。また、2022年度に出荷される予定のEUV露光装置はすべて「TWINSCAN NXE:3600D」という最新機種となる予定で、ウェハ処理能力は前世代比で15~20%向上すると予想している。
半導体業界においてEUV露光装置の重要性がさらに増すと見られており、すでに2月にはSK Hynixが先端DRAM製造に向けてASMLと5年間のEUV露光装置の購入契約(4500億円前後)を締結したほか、同じく3月には、Intelが7nm CPUの製造にEUV露光装置を本格的に活用していくことを明言している。加えて4月、Nanya TechnologyがEUVを採用したDRAMの製造に向けた新ファブ建設を発表している。これまでEUVを活用してきたTSMCもSamsung Electronicsも増産に向け、EUV露光装置の導入を加速させる見通しであり、今後、EUV露光装置の奪い合いが起こる可能性が高く、ASMLは増産を進める必要性に迫られるのではないかと業界関係者は見ている。
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