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かつて半導体産業の王者として君臨するもその後衰退していった日本が、最先端技術である2ナノメートル技術による半導体製造で挽回を期していると紹介。「これは一見良いことのように思えるが、真相を知るとそうではないことがわかる。日本は再び落とし穴にはまろうとしているのだ」とした。

そして、今年に入って米国が日本を半導体の共同開発に抱き込もうとしており、先日には日本が3500億円を投じて米国とともに先進半導体研究センターを設立し、2025〜30年までに2ナノ技術半導体の量産を目指す方針を打ち出したと伝えた。

また、3500億円という額は米ドルに換算すれば24億ドル程度であり、欧州や米国が100億ドル、1000億ドル単位での投資を行っているのに比べて少ないものの、あくまで単一の先進技術に対する投資であること、工場建設や材料確保向けには別途資金を調達することから総じて見れば決して低い金額ではないと評している。

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その上で、日本が落とし穴にはまる可能性があるとする理由について「今回の米国との提携は、日本が技術を提供する側ではなく、資金を提供する側であるからだ」とし、日本の製造技術がすでに時代遅れとなっているために今回の提携では米国企業であるIBMの先進技術が用いられる見込みであり、「事実上、米国が日本というスポンサーを見つけた」にすぎないと主張。

技術を持たない日本は今回の提携の中で、米国の全面的な主導の下で米国産半導体の取次業者としてその技術開発を支援するという受動的な立場に甘んじることになるだろうと予測した。
https://www.recordchina.co.jp/b904157-s25-c20-d0193.html



日本の半導体産業が早ければ2025年にも最先端2ナノメートルプロセス半導体の製造技術を獲得する見込み。今年上半期に日本が米国と共同で2ナノプロセス半導体開発を実施するという情報として、日本政府が日米共同研究拠点に3500億円を投じることを盛り込んだ半導体支援策で、研究拠点が早ければ年内に完成して日米による合弁会社が創設され、25〜30年の間に2ナノプロセス半導体の量産を実現する計画となる。

日本は現状2ナノプロセスの開発技術を持っていないため、この技術を持っているIBMを提携の対象とする可能性が最も高いとし、IBMが数年前に半導体事業を売却するも依然として高い技術開発力を持っており、2ナノプロセス半導体技術や1ナノメートルのカーボンナノチューブなどの「ブラックテクノロジー」を開発してきたとしている。　さらに、半導体事業が日本の次世代科学技術戦略の一部に過ぎないとし、合計3兆円を投じて半導体のほかにロボット、バッテリーなどの重要分野の技術開発を促進する計画だ。

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