ASMLが台湾に1兆2000億ウォンを追加投資
世界最大手の半導体装置メーカーであるオランダのASMLが、台湾に300億台湾ドル(約1兆2000億ウォン)を追加投資することにしたと、中央通信などの台湾メディアが17日付けで報じた。ASMLの台湾への投資額の中では最大規模だ。来年7月から北部の新北に工場を建設し、約2000人の職員を採用するのに使われる。ASMLのフレデリク・シュナイダー・マウノウリ最高運営責任者(COO)兼副社長は15日、台北で台湾の蔡英文台湾総統と会談し、このような投資計画を明らかにした。
ASMLは、半導体生産の必須装置である極紫外線(EUV)露光装置を独占生産している。現在、台湾で5つの工場を運営しながら、約4500人を雇っている。ASMLの投資ニュースは、台湾の沈栄津副行政院長(副首相)のフェイスブックを通じて先に伝えられた。蔡総統とシュナイダー・マウノウリ副社長の会談直後、沈副行政院長は、「グローバル半導体企業のASMLが、台湾に史上最大規模の投資をすることにした」とし、このような決定は非常に望ましく、台湾政府もASMLと引き続き協力すると強調した。
その後、蔡総統は声明で、「世界が台湾を心配する時期に、果敢な決断を下したASMLに感謝する」とし、「台湾への投資は危険だ、ということが事実ではないという点が明らかになったと信じる」と強調した。これに先立って今年8月、ナンシー・ペロシ米下院議長が中国の激しい反発にも台湾を訪問後、台湾に向けた中国の軍事脅威が高まり、台湾半導体産業の安定性に対する懸念が高まっていた。
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ASMLは、韓国に投資する計画も明らかにした。ピーター・ベニンク最高経営者(CEO)は15日、韓国を訪れ、「2400億ウォンを投資し、京畿道華城市(キョンギド・ファソンシ)に半導体装置の修理および顧客会社の職員教育施設を建設する」と述べた。長期的には製造工場の建設なども考慮する考えを示した。
https://www.donga.com/jp/List/article/all/20221118/3770593/1

ASMLは、オランダ南部・フェルトホーフェンに本部を置く半導体製造装置メーカー。半導体露光装置を販売する世界最大の会社で、16カ国に60以上の拠点を有し、世界中の主な半導体メーカーの80%以上がASMLの顧客。ASMLは液浸の採用によって2003年以降、躍進した一方で、現代の液浸露光技術に関する基本特許はニコンが保有していて両社の間には最近の2019年まで様々な法的紛争が起きていた。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数(N.A.)が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた。
近年の露光機には、光源に紫外線を発するArFエキシマレーザーが使用されており、さらに液浸露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の解像度が13ナノメートルに達した。また、ASMLは2020年(令和2年)現在、世界唯一の極端紫外線リソグラフィ(EUVL)装置メーカーである。同装置は7nmノード以下の露光が可能。同装置の価格は1台当240億円に達する。
ASMLは、半導体生産の必須装置である極紫外線(EUV)露光装置を独占生産している。現在、台湾で5つの工場を運営しながら、約4500人を雇っている。ASMLの投資ニュースは、台湾の沈栄津副行政院長(副首相)のフェイスブックを通じて先に伝えられた。蔡総統とシュナイダー・マウノウリ副社長の会談直後、沈副行政院長は、「グローバル半導体企業のASMLが、台湾に史上最大規模の投資をすることにした」とし、このような決定は非常に望ましく、台湾政府もASMLと引き続き協力すると強調した。
その後、蔡総統は声明で、「世界が台湾を心配する時期に、果敢な決断を下したASMLに感謝する」とし、「台湾への投資は危険だ、ということが事実ではないという点が明らかになったと信じる」と強調した。これに先立って今年8月、ナンシー・ペロシ米下院議長が中国の激しい反発にも台湾を訪問後、台湾に向けた中国の軍事脅威が高まり、台湾半導体産業の安定性に対する懸念が高まっていた。
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ASMLは、韓国に投資する計画も明らかにした。ピーター・ベニンク最高経営者(CEO)は15日、韓国を訪れ、「2400億ウォンを投資し、京畿道華城市(キョンギド・ファソンシ)に半導体装置の修理および顧客会社の職員教育施設を建設する」と述べた。長期的には製造工場の建設なども考慮する考えを示した。
https://www.donga.com/jp/List/article/all/20221118/3770593/1

ASMLは、オランダ南部・フェルトホーフェンに本部を置く半導体製造装置メーカー。半導体露光装置を販売する世界最大の会社で、16カ国に60以上の拠点を有し、世界中の主な半導体メーカーの80%以上がASMLの顧客。ASMLは液浸の採用によって2003年以降、躍進した一方で、現代の液浸露光技術に関する基本特許はニコンが保有していて両社の間には最近の2019年まで様々な法的紛争が起きていた。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数(N.A.)が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた。
近年の露光機には、光源に紫外線を発するArFエキシマレーザーが使用されており、さらに液浸露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の解像度が13ナノメートルに達した。また、ASMLは2020年(令和2年)現在、世界唯一の極端紫外線リソグラフィ(EUVL)装置メーカーである。同装置は7nmノード以下の露光が可能。同装置の価格は1台当240億円に達する。
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