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米国が今年10月に発表した中国への先進半導体チップ製造設備輸出規制措置について、米国の設備メーカーに加えて日本の東京エレクトロンとオランダのASMLも対象に含まれていたと米ブルームバーグが先日報じたことを紹介。中国の半導体産業は12インチおよび8インチ生産ラインでASMLのリソグラフィに依存しているほか、日本からはリソグラフィに加えてフォトレジストや大型シリコンウエハーといった半導体材料も輸入していると伝えた。

その上で、国際経営コンサルタント、エリス・コンサルティング社創設者である立花聡氏が米VOAのインタビューに対し「日本の半導体産業はすでに台湾や韓国に遅れを取っており、日本が米国による対中制裁に加わっても実質的な損失は大きくない。もし制裁に加わらなければ米中双方から嫌われることになる」との考えを示した一方で、日本の当事者企業は異なる考えを持っており、東京エレクトロンのファイナンスユニットGMを務める川本弘氏が今年8月に「米国の対中ハイテク輸出規制拡大を非常に懸念している。中国は非常に重要な市場であり、中国市場が引き続き成長していくと信じている」と語っていたことを伝えた。

また、オランダも米国のやり方に不満を抱いているとし、ASMLのピーター・ヴェニンクCEOが今月13日に「われわれの先進的な極端紫外線リソグラフィの対中販売が禁止された場合、中国企業は主に米国産の薄膜堆積設備やリソグラフィを購入する必要に迫られる。利益を受けるのは米国の半導体設備メーカーだ」と指摘したことを紹介している。

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さらに、英フィナンシャル・タイムズの10日付報道として、ソニーの技術責任者である北野宏明氏が米国による対中半導体制裁について「一時的には中国の半導体調達に影響するものの、中国の人工知能分野における成長の勢いを抑えることはできない」と語り、NECの森田隆之社長も同様の認識を示しているとした。
https://www.recordchina.co.jp/b906333-s25-c100-d0193.html



米国商務省は5月31日、オランダの半導体製造装置大手ASMLがコネチカット州ウィルトンの施設に2億ドルの拡張投資を決定した。ASMLは世界で唯一、次世代型露光装置とされる極紫外線（EUV）リソグラフィ装置を製造する半導体関連企業。EUVリソグラフィ装置は、従来型の露光装置では加工が困難なより微細な寸法の加工を可能とする。ウィルトンの施設は1974年に設立され、米国内で最大の研究・開発施設となっており、現在1,600人以上を雇用している。

今回決定した拡張投資により、向こう2年間で約1,000人の新規雇用が創出される見込みだ。同社のピーター・ウェニンク最高経営責任者（CEO）は「半導体産業の成長は速いペースで続いていく。予測される需要を満たすため、ASMLはインフラと人材に投資する。コネチカット州ウィルトンの施設はその投資の好例であり、当社の成功の基盤となる米国内拠点の1つ」との声明を出している。

バイデン米政権は12日、中国に対する半導体規制の抜本的な強化に向け、日本やオランダに協力を要請した。両国が強みを持つ半導体製造装置の対中輸出を絞り、高機能な先端半導体を中国国内で生産できなくさせる狙いがある。中国が先端半導体を軍事転用することへの懸念を米国が強めていることが背景にある。

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