韓国経済News

韓国水原地方検察庁防衛事業・産業技術犯罪捜査部が、1年にわたる捜査により、Samsung Electronicsの子会社で、韓国最大の半導体製造装置メーカーSEMESの元社員(主犯)、元研究員、協力会社代表、中国籍のブローカーら5名をSamsung向けの先端半導体洗浄装置に関する技術情報を中国企業に流した産業技術保護法違反および不正競争防止法違反(営業秘密の国外漏洩)の容疑で1月13日に起訴したと複数の韓国メディアが報じている。

2016年にSEMESを退社し2019年に新たに半導体洗浄装置メーカーを設立した主犯の被告は、2021年6月、Samsungが世界で初めて実用化した超臨界流体を用いたウェハ洗浄・乾燥装置の図面をブローカー経由で中国企業に渡したという。　主犯の人物は中国の半導体メーカーに超臨界洗浄装置10台(1台当たり248億ウォン)を納品し技術移転の協約も結んでいたともされており、これらの装置は、SEMESの協力会社が極秘に製造していたものだという。また、SEMESは、Samsungの依頼で費やした超臨界技術開発研究費(2009年から2021年までに約350億ウォン)などの直接損害を受けたと推定されるという。

さらに、SEMESの元研究員と共謀してSEMESのリン酸を用いた枚葉式ウエット洗浄装置技術情報を持ち出した容疑も受けているほか、被告らはウェット洗浄装置20台を中国企業に売り1139億ウォンを得た疑いも持たれている。

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超臨界流体洗浄技術については、韓国通商産業資源部(日本の経済産業省に相当)が2021年に「国家核心技術」に指定し、海外に技術流出せぬように警戒していた。検察関係者は「半導体装置分野の技術競争力低下は半導体生産競争力低下につながり、産業全般にわたって数兆ウォン以上の被害が発生する可能性がある」と話している。
https://news.mynavi.jp/techplus/article/20230118-2567143/



２０１７年、「SEMES(韓国最大の半導体・FPD製造装置メーカー)が世界で初めて先端超微細半導体量産用の画期的な製造装置を商用化した」と報じた。続けて「Applied Materials、Lam Research、東京エレクトロンなどの世界的な半導体製造装置メーカーが試作機さえまだ世に出せていない段階で、韓国メーカーが世界に先駆けて革新的な装置を商品化できたことは、韓国半導体製造装置業界にとって快挙だ」と述べている。

SEMESが製造し、韓国サムスン電子の最先端(<20nmクラスの) DRAM量産ラインに多数導入されて、歩留まり向上に寄与しているのは、超臨界二酸化炭素(Supercritical CO2)を採用したシリコンウェーハ洗浄乾燥装置と記事では説明している。サムスンがこの種の製造装置を量産ラインに導入したことは、一部の半導体洗浄業界関係者の間では以前から知られていたが、当事者であるサムスンやSEMES自身は一切公表していない。

SK Hynixは、サムスンに対抗上、日米の主要半導体装置メーカーに超臨界流体洗浄乾燥装置の開発を要請しており、すでに一部の装置メーカーの試作機がSK Hynixの研究開発ラインで評価中」としていた。しかし、Sサムスン/SEMESは10年以上にわたり密かに協業を続け、多数のデータを蓄積しており、すでに先端量産ラインで実績を出しており、競合企業が追いつくのは容易ではないとし、S開発中の次世代半導体メモリにも超臨界流体洗浄乾燥を適用するとしていた。

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