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これからサムスン電子とSKハイニックスが米国政府の投資補助金を受ける場合、10年間は中国内での先端半導体の生産量拡大を5％以内に制限するという方針を、米国政府が発表した。これらの企業が数十兆ウォンを投じて作った中国の工場を閉鎖しなければならないのではないかという懸念からは脱し、中国内の製造装置の維持と技術的アップグレードも一部可能になったという点で、「最悪は免れた」とする評価が出ている。

しかし、米国が先端半導体の装置と技術について中国に対する輸出禁止措置を強化することが予想されるなど、中国リスクはまだ壁が多い。技術が急速に発展する半導体市場の競争条件に照らすと、先端製造装置を投入できない中国現地の半導体生産ラインは「現状維持」もしくは「撤退」へと選択肢が狭まるからだ。

米商務省が21日（現地時間）に発表した半導体法ガードレール（投資制限装置）の細部規定によると、米国の半導体補助金を受ける企業の中国内の先端半導体工場は、5％以内の範囲で生産能力を拡大できる。技術開発を通じて1枚のウェハー（半導体シリコン円盤）からより多くの半導体チップを作ることも許される。制限された範囲内だが、新規投資を通じて先端半導体の製造施設を追加したりアップグレーできるという意味だ。

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汎用（レガシー）半導体は、生産拡大範囲は10％以内に制限される。韓国企業などが中国で作る半導体は、米商務省が提示した汎用半導体基準（ロジック半導体は28ナノメートル（1ナノメートルは10億分の1メートル）、DRAMは18ナノメートル、NANDは128段）より技術水準が高い先端半導体だ。5％以内のみ生産拡大が可能だという話だ。これを越える生産能力の拡大のための投資は、10万ドル以上は禁止される。
http://japan.hani.co.kr/arti/economy/46279.html



先端半導体製造に欠かせないEUV（極端紫外線）露光装置の生産で、世界市場をほぼ独占するオランダASML。そんな同社が韓国に新たな拠点を設けた。ASMLにとっては初の海外への大型投資だ。韓国では、米国による中国に対する半導体制裁により中国から撤退する企業が増えるなか、半導体製造の中心が韓国へと移動することを期待している。

今やASMLは世界でほぼ唯一、先端半導体の製造に欠かせないEUV露光装置を製造するメーカーだ。EUV露光装置は年間50台ほどしか生産できない。世界の半導体メーカーが1台でも多くEUV露光装置を確保しようと「ASML詣で」を重ねている。ASMLのニューキャンパスが完成すると、韓国内でEUV露光装置の維持管理がしやすくなる。修理のため装置をオランダにあるASMLの本社まで送る必要がなくなる。ASMLが半導体製造装置の部品を韓国内で調達する可能性もある。

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