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キヤノンは全社売り上げの約1割を占めるインダストリー事業で半導体露光装置を手がけている。同事業では目下、2025年春をメドに500億円を投じて半導体露光装置の製造能力を2倍にする計画が進行中。勢いのある事業だ。

ナノインプリント半導体製造装置は、まったく方式の新しい半導体露光装置。回路が彫り込まれた原版をハンコのようにスタンプすることで、半導体の材料であるウェハーに回路を描く。最先端半導体の製造に使うことが可能で、既存の露光装置より消費電力を大幅に減らせるという強みがある。　キヤノンは2014年にモレキュラーインプリント社の買収を通じて核となる技術を取得。10年もの間、粘り強く開発を続けていた。その装置が「発売開始」と発表されたのは、キヤノンエキスポ開催の1週間前、10月13日のことだった。

上市された直後とあって、来場者の熱い視線が注がれていた。「半導体製造においてゲームチェンジャーになる可能性を秘める」。御手洗氏もそう期待を込める製品だ。　

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今回のキヤノンエキスポは、ナノインプリント半導体製造装置のような製品だけを展示していたわけではない。これまでは表に出してこなかった、各事業領域に共通する技術や開発環境についても展示した。
https://news.yahoo.co.jp/articles/9fbb6004452ba65b9f9515b8db99189f482a9c80?page=2



キヤノンでは、さまざまな作業をロボットを使って自動化できるよう、研究を重ねている。精密機器の製造工程を自動化するとなると、ロボットに求められる動作や計測も超精密だ。生産に関する技術は、複合機やレンズユニットなど、事業横断的に使用されている。　次の成長を担っていく製品群。協業を見据えたオープンな姿勢。積極的にコミュニケーションを取れる技術者。8年ぶりのエキスポは、御手洗氏の言った「キヤノンのいちばん新しい姿」をみせることに成功したとみている。

キヤノンは、半導体デバイスの製造で最も重要な回路パターンの転写を担うナノインプリント半導体製造装置“FPA-1200NZ2C”を2023年10月13日に発売している。　これまでの投影露光技術とは異なる方式でパターンを形成するナノインプリントリソグラフィ（NIL）技術を使用した半導体製造装置を市場投入することで、半導体製造装置のラインアップを拡充し、最先端から従来の半導体デバイスまでの幅広いユーザーのニーズに応えるとしている。

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