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日本政府は2月4日、先端半導体技術の軍事転用を阻止するための輸出規制を今春にも実施する方針を固めた。特定の製品や技術を輸出する際に経済産業相の許可が必要となる外為法の省令を改正し、日本が強みを持つ半導体製造装置が輸出先で軍事利用されないようにする。中国を念頭にした米国やEU諸国などの規制と歩調を合わせるものだ。政府は、半導体の規制が多くの企業に影響を与えることから、広く企業などから意見を募る予定だ。

米国は、半導体製造装置で高い技術を持つオランダにも協力を要請しており、ここに来て日米蘭が揃って規制を実施することになる。米国が回路線幅14ナノメートル以下の半導体を規制していることから、日本も同様の対応をとると見られている。　ちなみに米国は、既に2020年12月、中国の半導体受託製造（ファウンドリ）最大手の中芯国際集成電路製造（SMIC）を含む中国企業4社を「共産中国軍事企業」のリストに加えて禁輸対象としている。この時、SMICとともにリスト指定を受けたのは国有石油大手の中国海洋石油（CNOOC）、国有建設大手の中国建設科技（CCTC）、国有エンジニアリング大手の中国国際工程諮詢（CIECC）の3社だった。
https://news.livedoor.com/article/detail/23683615/

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米国は中国の半導体製造能力向上を食い止めるため、輸出規制を一段と強化している。その一つとして、1月下旬、わが国とオランダは半導体製造装置の輸出規制に関して米国と合意したと報じられた。半導体などの先端分野において、米国は対中制裁をさらに強化する可能性が高い。わが国の半導体関連企業にとって、中国ビジネスに関する不確定要素が増える。一方、これまで以上に世界の半導体産業は、わが国の製造技術を必要とする。



米国の規制強化などによって、中国の半導体自給率向上は遅れ始めた。要因の一つに、先端分野の半導体製造に不可欠な「深紫外線」（DUV）」と、回路線幅5ナノメートルよりも先の微細化に必要な「極端紫外線」（EUV）を用いた製造技術が十分ではない。EUVを用いた露光装置に関しては、今のところ、オランダのASMLの独壇場である。その他、感光剤であるレジストの塗布と現像を行う装置（コータ・デベロッパ）は、東京エレクトロンのシェアが高い。

日蘭が米国と半導体製造装置の対中輸出管理の厳格化に合意したことで、中国の半導体の自給率向上は一段と遅れる。それは、急速に需要拡大してきた中国の半導体製造装置市場において、わが国やオランダの半導体製造装置メーカーが、収益を獲得しづらくなる。結果短期的に、日米欧の半導体製造装置メーカーによる、中国以外の市場におけるシェア争いが激化すると予想する。

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